セラックP PVDコーティング

PVD（Physical Vapor Deposition）は真空蒸着、スパッタリングおよびイオン表面処理技術を応用したイオンプレーティング法により処理品の表面に超硬質化合物（セラミック）をコーティングする方法です。低温（500℃以下）で成膜されるため、製品寸法を変化させることなく耐摩耗性、耐かじり性の優れた被膜が生成されます。"セラックP"はイオン化率の高い垂直電子ビームによるイオンプレーティング法で他のPVDより密着性の高いTiN、TiCN、CrN及びTiAlNなどの超硬質膜をコーティングすることができます。

1.無変質無変寸
400〜500℃で処理するため、母材の変質、変寸、変形を皆無に抑えられるので精密金型、切削工具に最も適しています。

2.均質性・均一性
適正な磁場コントロールと独特の処理品の自・公転機能により均質で、
均一な厚さの被膜が得られます。

3.高密着性
垂直ビーム法と電磁コイルによるプラズマのコントロールによりイオンと電子の再結合の防止、イオン化率の向上により、他のPVDより高い密着性が得られます。

4.高耐食性
TiN、CrN被膜とも良好な耐食性を示しますが、特にCrNはCrメッキよりも格段に優れており、耐食、耐摩耗金型、工具に適しています。

■ Ti系被膜の物理的特性